技術特色

量測中心建置了EUV晶圓式量測儀以及EUV波段光輻射量測標準追溯技術。 晶圓式量測儀可在半導體製程時進行量測，藉此提供製程優化、機台間計量一致性與校正之使用，確保製程品質及良率。

技術說明

EUV曝光機之特性掌握是攸關製程可靠度，因此為維持台灣半導體廠商之領先地位，必須要掌握EUV微影關鍵特性。晶圓式量測儀將是提供半導體廠商掌握EUV微影特性的解決方案，更是推動EUV相關檢測設備國產化之入門關鍵。量測中心建置了EUV晶圓式量測儀以及極紫外波段光輻射量測標準追溯技術。目前可以提供EUV光偵測器光輻射計量標準與EUV相關技術應用。晶圓式量測儀可在半導體製程時進行量測，藉此提供製程優化、機台間計量一致性與校正之使用，確保製程品質及良率，並可協助該製程段之節能功效。

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