先進製造與封測設備

Advanced Manufacturing & Packaging Equipment

先進製造與封測設備 千瓦級晶片液冷散熱方案

千瓦級晶片液冷散熱方案

技術特色

創新微結構設計搭配雙相液冷,解決高功率晶片熱管理瓶頸,實現千瓦級高效散熱。

技術說明

【迎向未來熱管理技術的革新浪潮】
在高速運算與資料中心日益嚴苛的熱通量環境下,散熱效能成為左右系統穩定性與可靠性的關鍵。本次展覽,我們將隆重推出「新一代高效能的先進散熱解決方案」,結合雙相冷板設計與創新微結構技術,有效應對千瓦級高功率晶片的極端熱管理挑戰。
透過兩相流模擬技術,精準掌握冷卻過程中的複雜物理現象,進一步優化冷卻結構設計,在有限空間中達成最大熱傳效益。我們致力於提升高階晶片在高熱通量環境下的運作穩定性與可靠性,全面強化熱管理技術能量,為下一世代伺服器與AI加速器的熱需求提供有力支撐。
無論是資料中心、高效能運算系統,或是精密電子產品的核心應用,我們的技術方案將滿足未來高效能運算與資料中心之散熱需求,驅動全球邁向更高效、更穩定的數位未來。

技術照片

技術聯絡人

姓名:王志耀
電話:03-5913743
信箱:cywang@itri.org.tw